产品介绍
高温氢氟加热器（型号：SHIPE12-480P3-KV-19-GC）是一种直列式电阻加热器，能在短时间内精确控制温度。它用于RCA清洗和湿法蚀刻过程中化学物质的高温加热。由于与液体接触的区域仅使用氟树脂和高纯度玻璃碳，因此该产品不会受到杂质污染，并且与酸碱化学物质以及有机溶剂兼容。
产品优势 极致的洁净度保障：与药液接触的所有区域仅使用氟树脂和高纯度玻璃碳。这种材质组合有效防止了金属离子的析出脱落，确保工艺介质不受任何杂质污染。 无O型橡胶圈结构：结构不适用橡胶O型圈，使加热器与酸性和碱性化学品以及有机溶剂兼容。 多重安全冗余系统： - 漏液传感器：实时检测化学品泄露风险。 - 温度开关：实时监测异常高温，防止热失控。 已知适用药液： 聚合物去除液，RCA清洗液，蚀刻液，光刻工艺中的显影液。 电镀和各种表面处理液等：酸性化学品（氢氟酸、硝酸等），碱性化学品（氢氧化钠，氢氧化钾等）。 有机化学品：如需将本加热器应用于有机化学品。 R2380+H2O2（氧化性混酸体系）（Cu-Post Etch Clean），R2360+H2O2（氧化性混酸体系）（Cu-Post Etch Clean） 注意：请在使用前进行充分评估或与供应商确认，此加热器不能用于含有臭氧的化学品。
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产品参数 额定功率：12kW (±10%) 输入电源：AC 480V / 三相 / 50-60Hz 工作温度：常温～80℃ 最大药液压力：≤0.3MPa 最小药液流量：≥15L/min 适配介质：强酸（HF、硝酸）、强碱（NaOH、TMAH）、有机溶剂、超纯水 外形尺寸：550×300×240 mm | 产品管道系统示意图 |
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产品应用
RCA清洗： 用于 SC-1、SC-2 等标准清洗液的高温加热。
湿法蚀刻（Etch）： 特别是针对高温氢氟酸（HF）、硝酸及磷酸体系的硅、氧化物或金属蚀刻。
光刻后处理： 适配于光刻胶去除液（PR Strip）、显影液及聚合物去除液的高效加热。
特殊药液应用： 可将 TMAH（氢氧化四甲铵） 安全加热至80℃，适用于先进封装及显示面板的显影工艺。
蚀刻后清洗： 支持 R2380+H2O2或 R2360+H2O2 等氧化性混酸体系下的 Cu-Post-Etch-Clean 工序。
