国内光刻胶企业加速国产化，突破高端技术壁垒

随着芯片制造及先进封装基板布线对精度和效率的需求日益增长，作为关键材料的光刻胶在国内市场的重要性愈发凸显。根据Trend Force集邦咨询的数据，国内厂商在这一领域取得了显著进展，为提升产业自主可控能力奠定了基础。

打破外国主导地位

光刻胶是制造组件、LED和集成电路的重要材料，对于提升分辨率和实现更高密度芯片具有关键作用。其技术覆盖了宽带紫外（300-450nm）、g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（13.5nm）以及电子束等领域，其中KrF、ArF和EUV代表了当前最先进的技术。尽管全球市场主要由JSR、东京大贺工业、信越化学、住友化学、富士胶片和杜邦等企业占据领先地位，但国内市场已显现出稳步向前的趋势。

据TechNews报道，国内企业如上海新洋、彤程新材料集团和Bcpharma在g线和i线等入门级光刻胶领域取得了重要突破，为国产化奠定了坚实基础。当前，国内光刻胶渗透率已达到g线和i线的20%，KrF约5%，ArF接近1%，逐渐形成多点开花的格局。与此同时，部分国内企业在高端光刻胶领域也取得了积极进展，正在加速追赶全球先进水平。

国内主要参与者

• 科华微电子（北京）科华微电子是彤程新材料集团的子公司，在g-line和i-line光刻胶方面取得重大进展，并扩展至高端工艺。自成立以来，该公司获得了“02重点项目”的支持，实现了中国第一条g/i线光刻胶生产线和KrF光刻胶的批量生产。

• 恒坤新材料科技（厦门）恒坤于2024年12月申请科创板上市，筹集资金以增强光刻胶技术并推动其在集成电路领域的扩张。公司专注于光刻胶和前驱体材料，产品包括SoC、BARC、KrF、i-line光刻胶等，用于NAND、DRAM和sub-90nm逻辑芯片生产。

• 矽工科技股份有限公司（苏州）矽士特股份有限公司专注于高性能光刻材料，在KrF和ArF光刻胶方面取得突破，为28nm及以下工艺提供定制解决方案。公司持续向高端市场扩展，增强其技术和生产能力。

• 龙华科技集团（洛阳）龙华电子在PCB光刻胶领域建立了强大的影响力，并逐步扩展至高端细分市场，增强了产品技术水平，满足更先进的工艺需求。

• 鼎龙化工股份有限公司（湖北）鼎龙最近宣布其浸没式ArF和KrF晶圆光刻胶产品通过客户验证，获得了两家中国晶圆厂的订单。公司开发了专用树脂、高纯度单体和其他关键材料，确保完全国内控制的生产流程。

• 开元荣达科技（深圳）荣达证券获得深圳证券交易所批准进行定向增发，筹集的资金将支持高端光刻胶干膜、IC载板阻焊剂的研发以及运营需求。

结语

中国光刻胶市场的国产化进程正加速推进，技术范围从i-line扩展到DUV、EUV，展现出巨大潜力。例如，i-line光刻胶已占据10%的市场份额，28nm以上的DUV工艺正在快速发展，而高端EUV光刻胶领域也开始布局。随着技术积累和研发投入的不断增加，国产光刻胶必将在高端市场实现突破，为中国半导体产业提供更强的支持和全球竞争力。