超临界CO2清洗技术凭借其独特的物理和化学特性，成为半导体制造领域的理想清洗解决方案。该技术利用超临界状态下二氧化碳的高密度和低粘度特性，有效去除油脂、溶剂残留及无机污染物，确保半导体器件的高洁净度。同时，超临界CO2的环保优势显著，不产生有害废液和废气，符合绿色制造的要求。该技术的高效、环保特性，使其在提升产品质量和降低生产成本方面具有重要作用，广泛应用于半导体行业。
转载来自 Tom聊芯片智造（知乎 聊聊芯片制造用的超纯水 - 知乎 (zhihu.com)）半导体器件的生产过程中，水的消耗量非常大。在制造的多个环节中，水被广泛应用于表面清洁、湿法蚀刻、电镀和化学机械平坦化等工序中。然而，用于半导体制造的水并非普通水，而是经过严格净化处理，达到半导体制造所需的超纯水标准。这种超纯水在纯度和质量上都符合严格的技术要求，以确保在生产过程中不会引入任何杂质，保证...
硅晶圆制造如何理解硅片、抛光片、退火片、外延片、晶圆、芯片、集成电路（IC）、分立器件/单管以及模块？集成电路产业中使用的半导体材料包括硅、锗、砷化镓、磷化铟、碳化硅和氮化镓等。由于硅的储量丰富、提纯和加工工艺成熟，以及氧化硅（SiO₂）的优良绝缘特性，以硅为基础制造的硅晶圆在全球半导体晶圆市场中占据了超过99%的份额。 硅晶圆的制造流程如下： 硅石（经过还原） → 金属硅（经过提纯） → ...
苏州实钧芯微电子有限公司的半导体高纯水加热器设备在百度首页排名第一。这款设备广泛应用于半导体、光伏、医疗和实验室领域中的高纯水和超纯水加热。半导体制造过程中，对高纯水进行加热至关重要，有助于提高清洗效果、加速化学反应、改善水的物理性质，并精确控制特定工艺过程。高纯水加热器的制造面临材料选择、温度控制、密封性能和清洁维护等多重挑战。苏州实钧芯凭借28年的加热器设计研发经验，提供自主研发的软件
标题: 原子层沉积 (ALD)：纳米制造与多领域应用的核心技术副标题: ALD 通过其精准的表面反应、出色的保形性和工艺兼容性，推动了半导体、能源、环境等领域的创新发展，同时展示了在小型化和多样化应用中的巨大潜力。 原子层沉积 (ALD) 是一种很有前途的薄膜制造技术，尤其是在纳米制造中，这要归功于其精确的表面反应。ALD 具有出色的保形性、亚纳米厚度控制和广泛的工艺兼...
在半导体制造的精细流程中，高纯净水加热器扮演着至关重要的角色。其核心功能在于提供加热后的高纯净水，这些水被广泛用于晶圆的清洗过程，旨在彻底去除表面的污染物和残留物，确保晶圆在各个制造阶段的纯净度。清洗步骤贯穿整个半导体制造流程，尤其在以下几个关键环节，高纯净水加热器的应用显得尤为重要：晶圆切割与研磨前后：晶圆在切割成单片后，需经初步清洗以去除粉尘和杂质；研磨后，晶圆表面留下的微小划痕和残留物...
